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삼성전자, 시스템반도체 2.5조 투자
한국경제 | 2017-03-13 19:58:44
[ 김현석 기자 ] 삼성전자가 2조5000억원을 투자해 10나노미터(㎚) 시스템반도
체 생산라인을 증설한다.

13일 업계에 따르면 삼성전자는 경기 화성시 17라인 공장의 빈 공간에 10㎚ 시
스템반도체 라인을 증설하기로 하고 국내외 주요 협력사에 장비를 발주했다. 생
산 규모는 월 1만8000장(웨이퍼 투입 기준)이다.

라인 증설에는 모두 2조5000억원가량이 투입될 것으로 알려졌다. 다음달부터 장
비가 반입돼 올 상반기 생산라인 설치를 끝내고, 하반기부터는 생산을 시작한다
는 계획이다.

삼성전자는 작년 말 경기 기흥시 S1 라인에 세계 최초로 10㎚ 생산라인을 구축
해 퀄컴 스냅드래곤 835와 자체 애플리케이션프로세서(AP)인 엑시노스9 시리즈
(8895)를 생산하고 있다. 기흥 S1에서는 월 2만5000장의 반도체를 생산하고 있
다.

화성 17라인은 2015년 완공됐다. 1단계로 D램 라인이 설치됐으며 지난해 2단계
로 3차원(3D) 낸드플래시 라인이 구축됐다. 업계 관계자는 “17라인은 당
초 시스템반도체 전용 라인으로 계획돼 ‘S3’로도 불렸지만 지금은
D램, 3D 낸드에 이어 10㎚ 시스템반도체까지 함께 생산하는 복합 반도체 공장
이 되는 것”이라고 말했다.

삼성전자는 내년께 7㎚ 반도체 공장도 화성 혹은 기흥에 증설할 것으로 알려졌
다. 세계에서 삼성전자와 인텔 TSMC 등 3개 회사만이 7㎚ 반도체를 개발 중이다
. 삼성전자는 7㎚ 생산라인을 세계 최초로 구축해 TSMC에 빼앗긴 애플 파운드리
물량을 되찾아오겠다는 전략이다.

김현석 기자 realist@hankyung.com


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